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首頁(yè)-技術(shù)文章-橢偏儀精準(zhǔn)“把脈”AlN晶體質(zhì)量:帶隙、無(wú)序度與表面形態(tài)一覽無(wú)余

橢偏儀精準(zhǔn)“把脈”AlN晶體質(zhì)量:帶隙、無(wú)序度與表面形態(tài)一覽無(wú)余

更新時(shí)間:2026-06-03      點(diǎn)擊次數(shù):204

馮哲川教授團(tuán)隊(duì)發(fā)表了關(guān)于物理氣相傳輸法(Physical Vapor TransportPVT)制備AlN晶體的深入研究。本研究巧妙地綜合利用可變角度光譜偏儀、拉曼光譜與原子力顯微鏡等表征手段,揭示了c面與mAlN晶體的本質(zhì)特性差異。其中,橢偏儀作為核心表征手段,為評(píng)估晶體質(zhì)量提供了關(guān)鍵、多維度的量化證據(jù)。研究成果以“Temperature-Dependent Raman Scattering and Correlative Investigation of AlN Crystals Prepared Using a Physical Vapor Transport (PVT) Method"為題,發(fā)表在《Photonics》雜志上。doi.org/10.3390/photonics11121161

一、成果簡(jiǎn)介

氮化鋁因其超寬禁帶等優(yōu)異特性,是深紫外光電子與高溫高功率器件的理想材料。物理氣相傳輸法是目前制備塊體AlN晶體的主流方法,然而,如何快速、準(zhǔn)確、無(wú)損地綜合評(píng)價(jià)晶體質(zhì)量(如光學(xué)帶隙、結(jié)構(gòu)無(wú)序度、表面狀態(tài)等)仍是研究的關(guān)鍵難點(diǎn)。

馮哲川教授團(tuán)隊(duì)利用武漢光科技的ME-L可變角穆勒矩陣偏儀,對(duì)PVT法制備的c面與mAlN晶體進(jìn)行了量測(cè),清晰揭示了不同晶面取向晶體的質(zhì)量差異及其溫度演化規(guī)律。其中,武漢光科技售后團(tuán)隊(duì)提供了相關(guān)的數(shù)據(jù)建模分析支持。

要點(diǎn)橢偏儀精準(zhǔn)確定光學(xué)帶隙,確認(rèn)材料本征特性

研究團(tuán)隊(duì)首先利用可變角光譜橢偏儀193-1650nm光譜范圍及多角度下測(cè)量了樣品的偏參數(shù)(Ψ, Δ),并通過(guò)建模擬合,得到的AlN晶體折射率(n)、消光系數(shù)(k)

研究發(fā)現(xiàn),折射率n197.5nm6.278ev)處出現(xiàn)拐點(diǎn),同時(shí)消光系數(shù)k在此能量處發(fā)生陡變。這共同表明AlN的帶隙能量約為6.2ev,與理論值高度吻合,從光學(xué)本質(zhì)特性上證明了所制備晶體材料的高質(zhì)量。

要點(diǎn)二:診斷Urbach

通過(guò)對(duì)吸收邊以下的帶尾狀態(tài)進(jìn)行分析,利用公式img1繪制Tauc圖,外推得到帶隙,如圖1

img2 

圖1 不同氮化鋁晶體的Tauc曲線圖

通過(guò)Urbach規(guī)則1/Eu=dlnα)dhv)計(jì)算了Urbach能量Eu,如圖2示。分析表明所有樣品Eu值均在85.0±0.3meV范圍內(nèi)。該值是表征晶體結(jié)構(gòu)無(wú)序度和缺陷密度的靈敏探針,此結(jié)果證明這些PVT-AlN晶體具有較高的結(jié)晶質(zhì)量。它與Tauc圖相輔相成,共同提供了材料光學(xué)性質(zhì)的完整圖像:Tauc圖給出了“理想"帶隙值,而烏爾巴赫?qǐng)D則揭示了材料在原子尺度的不wan美程度。

img3 

圖2 三種AIN晶體的Inα相對(duì)于光子能量(ev)的變化關(guān)系

要點(diǎn)三:橢偏儀量化表面粗糙度

偏光學(xué)建模中,表面粗糙度是一個(gè)關(guān)鍵的物理參數(shù),擬合結(jié)果表明質(zhì)量?jī)?yōu)的c面晶體AlNa表面粗糙度:8.07 nmm面晶體AlNb表面粗糙度:41.1 nm,另一c面晶體AlNc表面粗糙度:6.86 nm。該結(jié)果與AFM形貌觀測(cè)結(jié)果高度一致,充分證明了橢偏儀在快速、無(wú)損評(píng)估表面形態(tài)方面的較強(qiáng)能力,可作為AFM的有效補(bǔ)充甚至替代方案進(jìn)行初步快速篩查。

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本項(xiàng)研究系統(tǒng)性地展示了可變角度光譜橢偏儀在寬禁帶半導(dǎo)體體材料表征中的優(yōu)秀且不可替代的能力。它已超越傳統(tǒng)的膜厚測(cè)量,成為一套較強(qiáng)的“全息"診斷系統(tǒng),能夠一次性、無(wú)損地精準(zhǔn)獲取光學(xué)帶隙、結(jié)構(gòu)無(wú)序度及表面形貌等多維量化信息。

該工作明確證實(shí)了PVT法生長(zhǎng)的cAlN晶體在綜合質(zhì)量上優(yōu)于m面晶體。將高效的偏篩查與深入的拉分析相結(jié)合,構(gòu)成了研究和開發(fā)高性能半導(dǎo)體材料及其器件的較強(qiáng)方法,將有力推動(dòng)材料研發(fā)從“經(jīng)驗(yàn)摸索"走向“精準(zhǔn)設(shè)計(jì)"。

二、可變角穆勒矩陣偏儀

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